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CINNO Research 产业资讯,据日本媒体化学工业日报报道,显示用光刻胶材料厂家eChem Solutions Japan株式会社(日本川崎县,以下简称为“eChem”)宣布正式进军中国市场。以与中国本土厂家合作的形式,投资约100亿日元(约人民币4.9亿元),在重庆建设用于TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管,以下简称为“TFT”)和PLP(Panel Level Package,面板级封装,以下简称为“PLP”)的光刻胶(Resist)工厂,计划年底之前筹备好月产能为1000吨的量产体系。eChem还计划明年开始生产彩色光刻胶(Color Resist),进军中国半导体光刻胶市场。中国四川重庆地区虽然汇集了诸多面板厂家,却没有光刻胶厂家,因此蕴藏着巨大的市场商机。
eChem Solutions Japan入驻的神奈川县川崎市KSP产业园大楼外观(图片出自eChem官网)
新工厂名为“重庆CEMI公司(以下简称为“重庆CEMI”)”,坐落在中国重庆市壁山区,由当地政府及多家国内企业共同投资而建。eChem主要为新工厂提供材料技术、生产技术支持。
重庆CEMI工厂(图片来源:日本化学工业日报)
通过多年来向台湾等地区厂家提供技术支持(License),eChem已获得了丰富的实绩,因此此次也主要为新工厂重庆CEMI提供技术。
中国是全球LCD大国,拥有全球约七成的液晶面板产能。有巨头京东方集团(BOE)、TCL 华星CSOT、HKC(惠科)等面板厂家引领全球市场。在四川重庆地区也汇集了诸多LCD厂家,占中国整体三成的产能。另一方面,目前光刻胶厂家主要集中在上海、苏州等东部地区,四川重庆地区目前还没有本土光刻胶厂家。
目前,与重庆CEMI工厂配套的R&D(研究开发)中心已经完成。研发中心配有3.5代TFT和彩色滤光片(Color Filter)的光刻产线(Photolithography)、以及用于第五代PLP的电解镀铜产线。
新工厂将生产用于TFT和PLP的光刻胶。此外,关于PLP方向光刻胶,新工厂已经开始为Micro LED和Mini LED提供样品交货,因此新工厂有望提前实现量产。关于用于形成铜柱(Cu Pillar)的厚膜光刻胶,新工厂计划今后研发用于RDL(Re-Distribution Layer,重新排线层)的光刻胶,即“永久性光刻胶(Permanent Resist,指的是在加工处理后不需要除去的光阻剂)”。PLP工艺作为可用于LED排线和半导体封装的新型技术,颇受业界关注。由于该工艺需要电解镀铜,因此在环保要求严格的中国,能够使用PLP工艺的区域极其受限。重庆地区具备专门的电镀工业区,因此有利于面板厂家采用PLP工艺。
重庆CEMI计划明年开始生产包括黑色光刻胶在内的彩色光阻剂,且计划未来进军半导体光刻胶行业。同时,还计划横向展开在显示领域积累的经验技术,即未来考虑生产用于g、h、i线的光刻胶。此外,重庆CEMI还表示投资约300亿日元(约人民币14.7亿元)用于研发半导体光刻胶。
据日本媒体化学工业日报报道,此次重庆CEMI光刻胶工厂,有以下两大有利因素:第一、四川重庆当地没有竞争对手;第二,重庆CEMI是一家本土光刻胶厂家。在中国面板称霸全球的局势之下,本土偏光板厂家和彩色光刻胶厂家不断兴起,一种名为“By China”的“垂直统筹模式”正在中国大陆兴起。虽然日本或其他外资厂家在技术方面领先,但中国本土的材料厂更容易享受优待。
关于eChem Solutions Japan
2004年在集结了FPD业界从事材料开发、面板技术多年的人才,在日本成立eChem Solutions Japan,在台湾地区成立eChem Solutions Corp.(新应材股份有限公司)。日本作为感光材料的研发中心,将成果转移到台湾地区,主要面向台湾地区和中国大陆的液晶面板制造客户进行光刻胶的制造和销售。
随着液晶面板用光刻胶业务步入正轨并进入稳定期,开始将日本的研发主题转移到其他领域,2011年解除与台湾地区新应材公司的资本关系,作为日本法人重新开始。
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